| タイトル |
Nondegenerate Polycrystalline Hydrogen-Doped Indium Oxide (InOx:H) Thin Films Formed by Low-Temperature Solid-Phase Crystallization for Thin Film Transistors
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| 著者 |
Kataoka Taiki
Makino Hisao
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| 収録物名 |
Materials
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| 巻 | 15 |
| 号 | 1 |
| 収録物識別子 |
EISSN 1996-1944
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| 言語 |
英語
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| 資源タイプ | 学術雑誌論文 |
| 出版者 |
MDPI
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| 発行日 | 2021-12-7 |
| 権利関係（リンク） |  This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License. |
| アクセス権 | メタデータのみ |
| 関連情報 |
[DOI] 10.3390/ma15010187
[PMID] 35009333
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