| タイトル |
Nondegenerate Polycrystalline Hydrogen-Doped Indium Oxide (InOx:H) Thin Films Formed by Low-Temperature Solid-Phase Crystallization for Thin Film Transistors
|
| 著者 |
Kataoka Taiki
Makino Hisao
|
| 収録物名 |
Materials
|
| 巻 | 15 |
| 号 | 1 |
| 収録物識別子 |
EISSN 1996-1944
|
| 言語 |
英語
|
| 資源タイプ | 学術雑誌論文 |
| 出版者 |
MDPI
|
| 発行日 | 2021-12-7 |
| 権利関係（リンク） |  This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License. |
| アクセス権 | メタデータのみ |
| 関連情報 |
[DOI]
10.3390/ma15010187
[PMID]
35009333
|
