Influence of heavier impurity deposition on surface morphology development and sputtering behavior explored in multiple linear plasma devices

NUCLEAR MATERIALS AND ENERGY 18 巻 67-71 頁 2019-01 発行
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タイトル
Influence of heavier impurity deposition on surface morphology development and sputtering behavior explored in multiple linear plasma devices
著者
Nishijima D.
Kreter A.
Baldwin M. J.
Borodin D.
Eksaeva A.
Hwangbo D.
Kajita S.
Ohno N.
Patino M.
Pospieszczyk A.
Rasinski M.
Schlummer T.
Terra A.
Doerner R. P.
収録物名
NUCLEAR MATERIALS AND ENERGY
18
開始ページ 67
終了ページ 71
収録物識別子
EISSN 2352-1791
主題
Impurity deposition; Sputtering; Nanostructure ( その他)
言語
英語
資源タイプ 学術雑誌論文
出版者
ELSEVIER SCIENCE BV
発行日 2019-01
アクセス権 メタデータのみ
関連情報
[DOI] 10.1016/j.nme.2018.12.008
備考 This work is supported by the US DOE Grant: DE-FG02-07ER54912, and is conducted as part of IEA Technology Collaboration Programme on the Development and Research on Plasma Wall Interaction Facilities for Fusion Reactors.