Highly Ordered Molecular Orientation in a Phthalocyanine Film Deposited on a Well-Polished Indium-Tin Oxide Substrate

Japanese Journal of Applied Physics 49 巻 8R 号 081602-1-081602-5 頁 2010-08-20 発行
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タイトル
Highly Ordered Molecular Orientation in a Phthalocyanine Film Deposited on a Well-Polished Indium-Tin Oxide Substrate
著者
Ishihara Hiroaki
Kusagaya Toyotsugu
Tanaka Senku
収録物名
Japanese Journal of Applied Physics
49
8R
開始ページ 081602-1
終了ページ 081602-5
収録物識別子
ISSN 00214922
内容記述
その他
Metal-free phthalocyanine (H_2Pc) was deposited on an indium-tin oxide (ITO) substrate with a pentacene buffer layer, and the effect of polishing of the ITO surface on the molecular orientation of H_2Pc was studied. By rubbing the ITO surface 10,000 times with a plastic eraser, the average surface roughness of ITO was decreased to 1.0 nm from its initial value of 2.0 nm, and the (313^^-) X-ray diffraction peak of α-form H_2Pc became significantly large. Rocking curves and optical absorption spectra indicated that, by polishing the ITO surface, the disorder in the orientation of the stacking axis (b axis) of H_2Pc was reduced. A Schottky barrier cell of H_2Pc with a highly ordered molecular orientation showed a lower photovoltaic performance than that with a disordered orientation.
言語
英語
資源タイプ 学術雑誌論文
出版者
公益社団法人応用物理学会
Japanese Journal of Applied Physics
発行日 2010-08-20
権利情報
公益社団法人応用物理学会
出版タイプ Accepted Manuscript(出版雑誌の一論文として受付されたもの。内容とレイアウトは出版社の投稿様式に沿ったもの)
アクセス権 オープンアクセス
関連情報
[DOI] 10.1143/JJAP.49.081602
[NCID] AA12295836