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Makino, Hisao
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Nondegenerate Polycrystalline Hydrogen-Doped Indium Oxide (InOx:H) Thin Films Formed by Low-Temperature Solid-Phase Crystallization for Thin Film Transistors
属性
Article
著者
Kataoka Taiki
/
曲 勇作
/
Makino, Hisao
/
掲載誌名
Materials
巻
15
号
1
発行日
2021-12-7
資料タイプ
学術雑誌論文